1 - Übung Halbleitertechnik II - CMOS Technik (HL II) WS2023/2024/ClipID:50300 nächster Clip

Aufnahme Datum 2023-10-25

Sprache

Deutsch

Einrichtung

Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente

Produzent

Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente

Kapitel 1 - Dioden III - Schottky Kontakte
Kapitel 2 - Dioden IV - MIS Dioden (MIS Varaktoren)
Kapitel 3 - Transistoren II - Langkanal MISFET
Kapitel 4 - Skalierung I - (C)MOS Technology I - Inverter und Skalierungsregeln
Kapitel 5 - Skalierung II - (C)MOS technology II - Skalierung des Langkanal MISFETs
Kapitel 6 - Skalierung III - (C)MOS technology III - Isolation zwischen Transistoren
Kapitel 7 - Skalierung IV - (C)MOS technology IV - Metallisierung
Kapitel 8 - Transistoren III - Speicher - DRAM & SRAM Technology

Nächstes Video

Schloss1
Dr. Tobias Dirnecker
2023-10-30
IdM-Anmeldung
Schloss1
Dr. Tobias Dirnecker
2023-11-07
IdM-Anmeldung
Schloss1
Dr. Tobias Dirnecker
2023-11-13
IdM-Anmeldung
Schloss1
Dr. Tobias Dirnecker
2023-11-21
IdM-Anmeldung
Schloss1
Dr. Tobias Dirnecker
2023-11-28
IdM-Anmeldung

Mehr Videos aus der Kategorie "Technische Fakultät"

2024-12-13
Passwort
geschützte Daten  
2024-12-13
IdM-Anmeldung
geschützte Daten  
2024-12-12
Studon
geschützte Daten  
2024-12-12
Studon
geschützte Daten